Lézerinterferenciás litográfiával előállított arany nanovezetékek vizsgálata atomerő mikroszkópiával

OData támogatás
Konzulens:
Dr. Bonyár Attila
Elektronikai Technológia Tanszék

Munkám célja nanovezeték mintázat kialakítása arany vékonyrétegben lézer-interferencián alapuló litográfiával. Az eljárás előnye, hogy az alkalmazott lézer fókuszátmérőjénél vagy az alkalmazott fény hullámhosszánál lényegesen kisebb méretű alakzatok is létrehozhatóak a jellemzően 100 nm-es nagyságrendben. A rezisztben interferencia-litográfiával létrehozott mintázat kialakítása után az arany vékonyrétegek mintázatkialakítása szubtraktív (maratásos) eljárással történik. Az üveg hordozón előállított arany nanovezetékek lokalizált felületi plazmon-rezonanciás érzékelő elemként kerülnének potenciális alkalmazásra bioérzékelési célokra.

Munkám során a nanovezetékek létrehozásához Lloyd-tükrös interferométert terveztem és valósítottam meg kísérleti elrendezés formájában a tanszéki infrastruktúra és lehetőségek figyelembe vételével. Munkám magában foglalja az optikai mérési elrendezés kialakításához szükséges részfeladatok (tükör és hordozó befogás tervezése, nyalábtágítás stb.) megoldását. Az interferométer alapjául szolgáló befogót Autodesk Inventor programmal terveztem meg, ami ezután 3D nyomtatóval került kinyomtatásra. Az összeállított kísérleti elrendezéssel bevezető méréseket végeztem nanovezeték mintázatok létrehozására és annak AFM-es karakterizálására. A bevezető vizsgálatok során sikerült a fotórezisztben interferencia-expozícióra visszavezethető mintázatokat kialakítani, azonban megállapítottam, hogy szabályos, 100 nm-es méretű nanovezetékek létrehozásához a mérési elrendezés és a lézer paramétereinek (teljesítmény) további finomhangolására van szükség.

Letölthető fájlok

A témához tartozó fájlokat csak bejelentkezett felhasználók tölthetik le.