Nanogömb fotolitográfia numerikus szimulációja

OData támogatás
Konzulens:
Dr. Pávó József
Szélessávú Hírközlés és Villamosságtan Tanszék

A nanogömb fotolitográfia (NanoSphere Photolithography, NSP) egy olyan speciális fotolitográfiai eljárás, amellyel nagy felületen lehet előállítani periodikusan elhelyezkedő lyuk vagy oszlop struktúrát. Az NSP technológia abból áll, hogy a hordozóra felvitt rezisztre szoros pakolásban dielektromos gömböket viszünk fel, majd ezen keresztül megvilágítjuk a rezisztet. A gömbök maguk alá fókuszálják a fényt, így a gömbök alatti terület exponálódik, a többi terület pedig nem, így kioldás után létrejön a periodikus struktúra (pozitív reziszt esetén lyukak, negatív reziszt esetén oszlopok). Az NSP előnye, hogy mindezt gyorsan és olcsón lehet végrehajtani nagy felületeken is.

Tegyük fel, hogy egy hordozóra felvitt fotolakk rétegen kialakítottuk a periodikus lyuk struktúrát. Ezeken a lyukakon keresztül lehetőségünk van nanorudakat növeszteni. Az ilyen periodikus struktúráknak manapság széleskörű alkalmazási lehetőségei vannak. Ide tartoznak az újgenerációs vékonyréteg napelemek, fotonikus kristályok, nagy sűrűségű mágneses memóriák, fotodetektorok, nanoszűrők.

A szakdolgozatomban az NSP szimulációjával foglalkozom. Létrehozok egy numerikus modellt amely segítségével meghatározható a reziszt előhívás után kialakuló mintázata. Az elkészített numerikus modell segítségvel megvizsgálom a különböző hordozókon végzett NSP-t. Meghatározom, hogy milyen átmérőjű gömbök alkalmazhatók az NSP-ben adott rezisztvastagság és hullámhosszúságú megvilágítás esetén.

Megvizsgálom a két réteg gömbbel végzett NSP-t. A vizsgálat célja meghatározni, hogy lehet-e olyan mintázatokat létrehozni két réteg gömb segítségével amelyeket egy réteg gömbbel nem lehetséges.

Letölthető fájlok

A témához tartozó fájlokat csak bejelentkezett felhasználók tölthetik le.