Nanostrukturálásra alkalmas alumínium-oxid vékonyréteg technológiájának kidolgozása

OData támogatás
Konzulens:
Dr. Juhász László
Elektronikus Eszközök Tanszéke

Szakdolgozatom elkészítése során a feladatom az volt, hogy egy technológiai sort állítsak össze, amely nanopórusos alumínium-oxid vékonyréteg felhasználásával más rétegek strukturálását teszi lehetővé. Ennek érdekében kétféle alapanyaggal (szilícium szeleten kialakított vékonyréteg alumínium és alumínium fólia) végeztem el részletes, illetve előzetes kísérleteket az egyes lépésekről. Az alumínium fólia felületi egyenetlenségei miatt egy elektrokémiai polírozáshoz használatos kísérletet állítottam össze. A pórusos aluíminum-oxid réteg kialakításához 5 tömeg%-os oxálsavban (alumínium fólia) és 20 tömeg%-os kénsavban (szilíciumra leválasztott alumínium) végeztem anódikus oxidációt. A technológiai sor egyik kritikus lépese volt az elkészített rétegek zárórétegének megnyitása, melyhez 5 tömeg%-os foszforsavat használtam. Ehhez a lépéshez egy speciális edényre volt szükség melyet megterveztem és legyártattam. Az elkészített rétegeken kísérletet tettem a pórusok nikkellel feltöltésére galvanizálás segítségével. Ezeken túl, előzetes vizsgálatokat végeztem el, amelyekből megállapítható, hogy a maszkolás céljára kialakított réteg valóban pórusos, és a galvanizálással leválasztott nikkel szubmikronos tartományba esik.

Letölthető fájlok

A témához tartozó fájlokat csak bejelentkezett felhasználók tölthetik le.