Vékonyréteg napelem rétegszerkezet technológiája és minősítése

OData támogatás
Konzulens:
Horváth Veronika
Elektronikus Eszközök Tanszéke

Dolgozatomban áttekintem a napelemek felépítését, elvi működését, bemutatom pár gyakorlati alkalmazásukat, majd áttérek a réz-indium-gallium-diszelenid vékonyréteg napelemek rétegszerkezetének felépítésére, azon belül is a felső, átlátszó vezető réteggel fogok részletesen foglalkozni. Ismertetem a különböző rétegleválasztási technológiákat, jelentős hangsúlyt fektetve az ALD módszerre. Ezután alaposabban ismertetek pár módszert, melyek a rétegszerkezetek minősítésére szolgálnak, ezek a pásztázó elektronmikroszkópia, a röntgendiffrakció, az ellipszometria és a van der Pauw mérés.

Munkám során vezető ZnO rétegeket hozok létre amorf nátronüveg és kristályos szilícium szubsztrátokon, különböző hőmérsékleten és különböző alumínium adalékolással, ALD technológiát alkalmazva. A célom, hogy a más-más paraméterekkel leválasztott rétegeket minősítsem elektromos vezetőképesség szempontjából. Ehhez két jelenséget veszek figyelembe külön-külön, a töltéshordozó koncentrációt és a mozgékonyságot. Ezen jelenségek fajlagos ellenállásra gyakorolt hatását vizsgálom a különböző leválasztási paraméterek függvényében, hogy optimális technológiai eljárást határozhassak meg átlátszó napelem kontaktusok létrehozásához.

Letölthető fájlok

A témához tartozó fájlokat csak bejelentkezett felhasználók tölthetik le.